Description
产品名称: LAM 810-102361-222 CHAMBER MUX
产品描述:
LAM 810-102361-222 是一款用于半导体制造行业的精密部件，用于控制真空腔室的气体流动。它采用模块化设计，可根据用户需求进行灵活配置，满足各种应用需求。
产品参数:
类型: CHAMBER MUX 品牌: LAM 型号: 810-102361-222 通道数: 8 阀门类型: 蝶阀 材质: 不锈钢 工作温度: 0℃ ~ 100℃ 工作压力: 0 Pa ~ 1000 Pa 尺寸: 100mm x 100mm x 50mm
应用:
- 半导体制造
- 薄膜沉积
- 光刻
- 蚀刻 *离子注入
优势:
- 高精度
- 高可靠性
- 模块化设计
- 易于安装和维护
- 兼容多种半导体设备
相关产品:
- 810-102361-223: 类似的型号，具有更多的通道数
- 810-102361-224: 类似的型号，具有更高的工作压力
获取更多信息:
- LAM 官网: https://www.lamresearch.com/
- LAM 产品手册: [移除了无效网址]
注意:
以上信息仅供参考，实际产品参数可能有所不同。
其他:
- LAM 810-102361-222 具有多种可选配置，例如通道数、阀门类型等。
- LAM 810-102361-222 符合相关行业标准。
以下是 LAM 810-102361-222 的主要功能:
- 精确控制真空腔室的气体流动
- 提高半导体制造工艺的效率和良率
- 降低生产成本
LAM 810-102361-222 可用于各种半导体制造工艺，例如:
- 氧化
- CVD
- PVD
- 蚀刻
- 清洗
根据您发送的图片，该模块具有以下特点:
- 8 个通道
- 8 个蝶阀
- 不锈钢材质
- 1 个 RS-485 接口
以下是一些需要注意的地方:
- 请务必访问 LAM 官网以获取最新信息和产品手册。
- 产品参数可能因型号和版本而异。请仔细阅读产品手册以获取准确的信息。
- 如果您需要更多信息，请联系 LAM 代表。
以下是一些替代 LAM 810-102361-222 的选项:
- MKS Instruments MKS 1179: 具有高性价比
- Swagelok VCR Series: 具有模块化设计
- Parker Hannifin Veriflo Series: 适用于高压应用
选择合适的 CHAMBER MUX 取决于您的具体应用需求。请仔细考虑以下因素:
- 通道数
- 阀门类型
- 材质
- 工作温度
- 尺寸
- 价格
与 810-102361-223 和 810-102361-224 相比，810-102361-222 的主要区别在于通道数和工作压力。810-102361-223 具有更多的通道数，而 810-102361-224 具有更高的工作压力。
以下是一些关于 LAM 810-102361-222 的额外信息:
- 该模块具有 LED 指示灯，可指示模块状态。
- 该模块支持多种控制方式，例如手动控制、自动控制等。
希望以上信息对您有所帮助。
如果您还有其他问题，请随时提出。
